真空室內(nèi)腔尺寸：φ900mm*H800mm

工轉(zhuǎn)機構(gòu)：16面體公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)動裝置

靶源：矩靶/圓靶/柱靶

加熱方式：鎧裝加熱器

電源：DC電源/MF電源/RF電源（13.56MHZ）

設備電源：三相   380V    50HZ

真空系統(tǒng)：雙極旋片泵+分子泵

設備冷卻水：0.2-0.4Mpa

空載極限真空：8.0x10^-5Pa

設備壓縮空氣：0.4-0.8Mpa

空載恢復真空：3x10^-3Pa≤10min

設備重量：約2.0T

磁控濺射鍍膜機的內(nèi)腔尺寸、靶及電源配置等可根據(jù)客戶的工藝要求量身定制